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第四十六章 春节晚会

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赶来公司跟李皓汇报,这段时间的谈判进展。

日本走的技术路线和ASmL公司不同,或许是因为从中国偷走了太多文化的缘故,让它也继承到了一些大国本帮的理念。

讲究的是能在本国解决的技术,就不要依赖于国外公司。

所以不管是佳能还是尼康生产的光刻机,大多的部件都是本国公司生产,而且各专业领域还都算是比较领先的。

这次叶顺亲自带队,就对光源、光刻胶、掩光罩、半导体生产用特殊气体、电子级硅晶圆等诸多领域,只要是在这次金融危机中,受到波及的公司进行了约谈。

其中就包括JSR、SUm、凸版印刷、Airater、栗田工业、小松研究所,并取得了一定的成绩。

反正徐教授对此是非常兴奋的,一直都在跟李皓解释,现在他们生产的光刻机主要就是卡在了光源上。

如果能顺利拿下小松研究所的技术,那么他们就可以保证,在明年年底前,生产出193纳米的光刻机,将极限工艺递进到90nm,晶圆尺寸升级到12英寸。

这已经基本达到了国际的先进水平,毕竟虽然ASmL公司早

在1989年,就已经生产出第一台193纳米的光刻机。

可之后也只是在极限工艺上做到了进步,在前几年将极限工艺做到了65nm。

毕竟在真实历史上,光刻机产业在产业在193nm波长上卡了将近20年!

如何将工艺跨入到40nm工艺,成为了阻挡在所有半导体厂商门口的拦路虎。

直到2002年,浸入式光刻技术的出现,将原先镜头与光刻胶之间的介质从空气换成了液体,从而利用光通过液体介质后光源波长缩短达成了提高分辨率的要求。

至于真正量产,那就还要靠后,一直到2007年蔡司公司推出的Starlith1900i,成为了第一款达到38纳米极限分辨率的浸没式光学器件,ASmL公司继而才生产出跨越式的光刻机来。

而且这项技术最大的好处就是,其利用的还是原来的193nm干式光刻技术平台,只不过是单纯的介质改变,其他的技术应用并没有太多改动,所以比起一项崭新的技术,更能让客户接受。

因为李皓的提前指点,徐教授带领的技术团队,早在去年就已经开始进行这方面的研究。

李皓就是要利用这停滞的时间,来给国产的光刻机争取时间。

当然,李皓也


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