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第二百六十五章 互联网行业的爸爸

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业后,徐申学还参加了几天的座谈会,参加会议的人很少,凡是谈及的话题可比之前在杭城里的互联网议题高大上多了。

话题主要涉及半导体设计以及制造领域还有计算机,服务器等生态领域。

在会议上,徐申学更多时候是充当一个技术介绍人的角色,详细为参加会议的人介绍国内,或者说智云在这些领域的一些技术发展情况。

重点介绍了智云集团在半导体设计以及制造领域的技术进步,同时还重点介绍了仙女山控股旗下的光刻机、蚀刻机等半导体制造设备以及光刻胶、特殊气体等耗材等领域的技术进步。

“目前我们生产的DUV干式光刻机已经全面应用于智云微电子的芯片生产工厂里,其整体生产效率以及成本控制上,虽然对比国外同类产品有一些差距,但是通过压低设备采购成本,耗材成本以及尤其维护成本,也足以让芯片工厂的整合成本做到和国外进口产品相当的程度!”

“按照我们的规划,大概在明年,我们就能够在六十五纳米工艺生产线上,完成百分之八十的关键设备以及耗材的自主可控!”

“三年内,预计就能够实现六十五纳米工艺的完全自主可控!”

“同时我们还在展开DUV浸润式光刻机为核心的四十五纳米以及以下工艺的生产线的研发,在DUV浸润式光刻机上已经获得了一定的技术突破,各大的关键核心子系统已经解决了基本的技术难题,目前正处于系统整合,细节问题的处理上,我的技术团队向我承诺过,最初明年年中,就能够拿出来首台样机进行测试!”

“配套的蚀刻机,离子注入机等诸多核心设备的研发有快有慢,但是大概也能够在两到三年内完成技术积累,逐步完善,乐观估计在15年左右,我们就能够在部分进口设备以及耗材的支持下,初步建立一条四十五纳米生产线,预估在16年左右做到自主可控!”

“而通过这一套设备的继续往下延伸,我们是能够满足更先进的二十八纳米工艺,乃至二十二纳米工艺,甚至十四纳米工艺的自主可控的!”

“毕竟二十八纳米工艺以下,基本都算是等效工艺,对设备的要求虽然更高,但是本质上没有太大的变化。”

“如今我的芯片工厂正在展开的二十二纳米3D晶体管的工艺研究,也是基于现有的设备生产线而进行的!”

“而在更先进的EUV光刻机,也就是十四纳米工艺以下的生产线研究里,我们目前还处于技术论证阶段,核心的光源问题已经


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