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第435章 芯片自研自产!收购中芯国际的晶圆厂?

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纳米的高端光刻胶那么困难。

说白了,当下和欧美的差距还很小。

因为王逸之前不知天高地厚的提议,官方提前布局,提前攻坚,完全可以在差距小的时候,提前追赶上欧美,甚至弯道超车。

前世,落后得太多。

那时候,欧美EUV都更新了好几代,并且投用了多年,咱们才奋起直追DUV光刻机,自然难。

可这一次,大家都还是DUV,那就简单了。

至于阿斯麦的EUV,目前还不成熟,正式投用还得好几年。

因为王逸的提议,提前追赶,前途可期。

“那再好不过,我相信国家机器的力量。”王逸笑说。

像是DUV光刻机,星逸科技要做,十年都难。

官方要做,有国家机器全力支持,五年就差不多搞定14纳米的DUV。

后续不断迭代升级,逐步提高精准度,达到10纳米,7纳米,不在话下。

毕竟阿斯麦2003年推出了第一代浸没式DUV 1250i,最初也是造45纳米芯片的。

后续不断对DUV光刻机的光源、光学系统、套刻精度、温控等方面,进行全方位升级。

这才逐渐实现了32-28纳米工艺,以及后续的20-16纳米工艺,再到10纳米节点、7纳米节点,以及十年后的5纳米节点。

前世DUV国产光刻机之所以迟迟不量产,主要原因就是要求高,起步高。

若是只能量产45纳米,那意义不大,推出了也没多少企业用。

十年后,缺的是高端光刻机,不是45纳米的光刻机。

但要想量产7纳米,甚至5纳米,那难度就大了,国产DUV都得不断升级。

因此,国产DUV迟迟不推出,就是在憋大招。

不过这一次就无所谓了。

起步早,能量产28纳米,就算是非常成功。

甚至量产45纳米,王逸都会疯狂买买买。

毕竟未来五年内,45纳米都是主流芯片。

而28纳米和20纳米,都只是少量的旗舰芯片,只占少数。

相反,更多的芯片都是物美价廉的45纳米。

国产光刻机若是能量产45纳米,都会很有市场。

但若是十年后才推出45纳米的国产光刻机,那就难了。

毕竟十年后的45纳米,是真的没法用。


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